光学材料均匀性

光学材料均匀性

光学元件的一个重要特性是其所用材料的折射率的变化,广义上称为均匀性。  材料的不均匀性会导致玻璃中折射率的变化,这种变化可能表现为尖锐的线状区域(所谓的条纹),也可能表现为样品较大区域中的折射率梯度。  我们必须对材料折射率的变化进行分析,确保其影响在所用材料的特定光学设计的公差范围内。

ZYGO 激光干涉仪产品提供了一系列用于鉴定光学材料均匀性的功能,我们的综合 Mx 数据采集和分析软件也提供了许多内置的分析功能。

Verifire MST – 多表面测试干涉仪可以同时测量窗片的透射波前和消除表面变形的影响(这是实现精确的材料测量所必需的),非常适合用于鉴定平面平行窗片的材料均匀性。  MST 的同时测量特性降低了测量不确定性,可获得最精确的结果,并保持了均匀性的重要线性分量,这是其他计量方法所不能提供的信息。

VerifireDynafiz 干涉仪通过专门为材料均匀性测量而设计的采集和分析软件包,实现了对楔形光学器件进行类似的测量。

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